大同蔡司公司*新推出Sigma300场发射扫描电镜采用成熟的GEMINI光学系统设计，将低电压成像技术发挥到了极 致，采用适宜的探针电流范围，降低50%的信噪比从而提升了85%的衬度信息。Sigma300将高 级的分析性能与场发射扫描技术相结合，多种探测器可选：用于颗粒、表面或者纳 米结构成像。Sigma自动的四步工作流程大大节省了设置与分析操作的时间，提高 效率。

　　产品应用

　　扫描电镜(SEM)广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等 检验和研究。在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域进行材料的微观形貌、组织、成分分析，各种材料的形貌组织观察，材料断口分 析和失效分析，材料实时微区成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面扫描和线扫描分布测量，晶体、晶粒的相鉴定，晶粒尺寸、形状分析，晶体、晶 粒取向测量。

　　技术参数

　　▪ 分辨率：1.2nm @15 kV 2.2nm @1kV

　　▪ 放大倍数：10-1,000,000×

　　▪ 加速电压：调整范围：0.02-30 kV(无需减速模式实现)

　　▪ 探针电流：4pA-20nA (40nA&100nA可选)

　　▪ 低真空范围：2-133Pa (Sigma 300VP可用)

　　▪ 样品室：365 mm(φ)，275mm(h)

　　▪ 样品台：5轴优中 心全自动

　　▪ X=125mm

　　▪ Y=125 mm

　　▪ Z=50 mm

　　▪ T=-10º-90º

　　▪ R=360º 连续

　　▪ 系统控制：基于Windows 7的SmartSEM操作系统，可选鼠标、键盘、控制面板控制